Sama sa graphene, ang MXenes usa ka metal nga carbide nga duha ka dimensyon nga materyal nga gilangkuban sa mga lut-od sa titanium, aluminyo, ug carbon atoms, nga ang matag usa adunay kaugalingon nga lig-on nga istruktura ug dali nga molihok taliwala sa mga sapaw. Kaniadtong Marso 2021, ang Missouri State University of Science and Technology ug Argonne National Laboratory nagpahigayon panukiduki bahin sa mga materyales sa MXenes ug nakit-an nga ang mga anti-wear ug lubricating nga mga kabtangan niini nga materyal sa grabe nga mga palibot labi ka maayo kaysa tradisyonal nga mga lubricant nga nakabase sa lana, ug mahimong magamit ingon ""Super Lubricant" aron makunhuran ang pagsul-ob sa umaabot nga mga pagsusi sama sa Paglahutay.
Gisundog sa mga tigdukiduki ang palibot sa kawanangan, ug ang mga pagsulay sa friction sa materyal nakit-an nga ang friction coefficient sa MXene interface tali sa steel ball ug sa silica-coated disc nga naporma sa "superlubricated state" kay ubos sa 0.0067 nga ubos sa 0.0017. Mas maayo nga mga resulta ang nakuha sa dihang ang graphene gidugang sa MXene. Ang pagdugang sa graphene mahimo pa nga makunhuran ang friction sa 37.3% ug makunhuran ang pagsul-ob sa usa ka hinungdan nga 2 nga dili maapektuhan ang mga kabtangan sa superlubrication sa MXene. Ang mga materyales sa MXenes maayo nga gipahaum sa taas nga temperatura nga mga palibot, nagbukas sa bag-ong mga pultahan alang sa umaabot nga paggamit sa mga lubricant sa grabe nga mga palibot.
Ang pag-uswag sa pag-uswag sa unang 2nm process chip sa Estados Unidos gipahibalo
Ang nagpadayon nga hagit sa industriya sa semiconductor mao ang dungan nga paghimo og mas gagmay, mas paspas, mas gamhanan ug mas episyente sa enerhiya nga mga microchip. Kadaghanan sa mga computer chips nga gigamit sa mga device karon naggamit sa 10- o 7-nanometer nga teknolohiya sa proseso, uban sa pipila ka mga tiggama og 5-nanometer chips.
Niadtong Mayo 2021, gipahibalo sa IBM Corporation sa Estados Unidos ang pag-uswag sa kalamboan sa unang 2nm process chip sa kalibutan. Ang chip transistor nagsagop sa usa ka three-layer nanometer gate all around (GAA) nga disenyo, gamit ang pinaka-advanced nga extreme ultraviolet lithography nga teknolohiya aron mahibal-an ang minimum nga gidak-on, ang transistor gate nga gitas-on mao ang 12 nanometer, ang integration density moabot sa 333 milyon kada square millimeter, ug 50 bilyones mahimong i-integrate.
Ang mga transistor gisagol sa usa ka lugar nga sama kadako sa usa ka kuko. Kung itandi sa 7nm chip, ang 2nm process chip gilauman nga makapauswag sa performance sa 45%, makunhuran ang konsumo sa enerhiya sa 75%, ug makapalugway sa battery life sa mga mobile phone sa upat ka beses, ug ang mobile phone mahimong magamit nga padayon sulod sa upat ka adlaw. nga adunay usa lamang ka bayad.
Dugang pa, ang bag-ong proseso nga chip mahimo usab nga makapauswag pag-ayo sa pasundayag sa mga notebook nga kompyuter, lakip ang pagpaayo sa gahum sa pagproseso sa aplikasyon sa mga notebook nga kompyuter ug ang katulin sa pag-access sa Internet. Sa self-driving nga mga sakyanan, ang 2nm process chips makapauswag sa mga kapabilidad sa pag-detect sa butang ug makapamubo sa mga oras sa pagtubag, nga makapauswag pag-ayo sa pag-uswag sa semiconductor field ug magpadayon sa leyenda sa Moore's Law. Ang IBM nagplano sa paghimo og mass-produce nga 2nm process chips sa 2027.
Oras sa pag-post: Aug-01-2022